Top.Mail.Ru
Кафедра материаловедения полупроводников и диэлектриков

История кафедры

В 1962 году в Московском институте стали и сплавов (ныне — Университет МИСИС) на новом факультете полупроводниковых материалов и приборов в числе первых были созданы кафедры материаловедения полупроводников и кристаллографии.

Кафедра материаловедения полупроводников стала первой в стране кафедрой, создавшей школу материаловедения для подготовки специалистов электронной промышленности.

Для работы на кафедре были приглашены высококвалифицированные работники промышленности, доценты и кандидаты наук: М.М. Самохвалов, М.Я. Дашевский, Б.Е. Левин, В.Т. Бублик, А.Н. Дубровина, Т.Д. Лисовская, А.А. Галаев и другие. Были созданы лаборатории роста кристаллов, микроэлектроники с вакуумным оборудованием для получения и исследования пленок и процессов диффузии, структурная, занимающаяся исследованием структуры полупроводников с использованием дифракционных и оптических методов, метрики, проводящая измерения основных электрофизических параметров полупроводников, ферритов, оснащенная оборудованием для приготовления и термической обработки, измерения основных магнитных параметров ферритов.

Заведующие кафедры

С 2025 года заведующим кафедрой является к.ф.-м.н., PhD, с.н.с., заведующий лабораторией физики оксидных сегнетоэлектриков Дмитрий Александрович Киселев.